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磁控濺射鍍膜機(jī)Sputter

簡要描述：v應(yīng)用領(lǐng)域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學(xué)（CMS）、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級器件、光子學(xué)、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機(jī)薄膜v樣品尺寸：8英寸v濺射源：強(qiáng)磁靶、永磁靶

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號

廠商性質(zhì)

代理商

更新時(shí)間

2024-10-22

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詳細(xì)介紹

v 應(yīng)用領(lǐng)域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學(xué)（CMS）、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級器件、光子學(xué)、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機(jī)薄膜

v 樣品尺寸：8英寸

v 濺射源：強(qiáng)磁靶、永磁靶，數(shù)量根據(jù)用戶定制

v 電源：直流電源、射頻電壓

v 真空系統(tǒng)：超高真空

v 樣品臺加熱：至1100℃

v 控制系統(tǒng)：全自動控制

v 進(jìn)樣室：根據(jù)用戶需求定制


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